Gr5 titanium doel

GR5 titanium doelmateriaal verwijst naar de sputterbron die verschillende functionele films op het substraat vormt door magnetronsputteren, multi-arc ion-plating of andere soorten coatingapparatuur onder geschikte procesomstandigheden. Sputterdoelen worden veel gebruikt in decoratie, mallen, glas, elektronische apparaten, halfgeleiders, magnetische opnames, vliegtuigweergave, zonnecellen en vele andere gebieden.

Zuiverheid is een van de belangrijkste prestatie-indexen van het doelmateriaal omdat de zuiverheid van het doelmateriaal een grote invloed heeft op de dunne prestatie.

Verschillende doelmaterialen hebben verschillende vereisten voor verschillende onzuiverheden onder verschillende omstandigheden.

Gewoonlijk is het doelmateriaal polykristallijn met korrelgroottes variërend van micron tot millimeter. Voor hetzelfde doel is de sputtersnelheid van het doel met de fijne korrel sneller dan die van het doel met grove korrel. De dunne films die worden afgezet door sputteren van het doel met kleinere verschillen in korrelgrootte (uniforme verdeling) hebben een meer uniforme dikteverdeling.

Leveranciers van titanium sputterdoel

Hoogzuiver titanium sputterdoel

Titanium wolfraam sputterdoel

Sputterdoel van titaniumoxide

Titanium draaibaar sputterdoel

Graad 5 Titanium Pvd sputterdoel

Titanium binair doel

Productnaam:Titanium sputterdoel (Ti-doel)

Materiaal: Zuiver titanium (GR1/GR2)

Zuiverheid: 299,5 procent

Dichtheid: 4,51 g/cm3

Korrelgrootte:s1 00um

Grootte (mmj:Da100-40/00*32mm,Dia63-40/6332m en etc.

Technologie: HIP

Neem contact met ons op:

Als u vragen heeft, neem dan contact met ons op. Werktijden: 8:30 uur tot 17:30 uur

E-mailadres:zhangjixia@bjygti.com

Populaire tags: gr5 titanium target, China, leveranciers, fabrikanten, aangepast, gebruik, prijslijst, te koop, op voorraad, gratis monster, poreus materiaal