1um poreuze titanium filterpatroon voor natte halfgeleiderverwerking

1um poreuze titanium filterpatroon voor natte halfgeleiderverwerking levert absolute- beoordeelde deeltjesretentie in agressieve chemische omgevingen waar polymeermembranen opzwellen of afbreken. Dit gesinterde filter met metaalpoeder is vervaardigd uit meer dan of gelijk aan 99,4% industrieel titaniumpoeder met een hoge-zuiverheid via koud isostatisch persen en vacuümsinteren bij hoge- temperatuur. Het bereikt een uniforme microporeuze structuur met een porositeit variërend van 30-40% en een smalle poriegrootteverdeling. Bij het koolstofvrij maken van de API-productie van de farmaceutische productie vangt het 1 μm gesinterde titaniumstaaffilter fijne actieve koolresiduen en fijne katalysatordeeltjes op uit hoogviskeuze moederlogen, met herbruikbare terugspoelmogelijkheden waardoor de levensduur meerdere malen wordt verlengd ten opzichte van membraanalternatieven. Bij de vervaardiging van halfgeleiders via natte-processen worden gesinterde filters van 1um titaniumpoeder geïntegreerd in chemische aanvoerlijnen voor SC-1-, SC-2-, 49% HF- en HNO₃-stromen, waarbij het titaniumsubstraat bestand is tegen putvorming door chloriderijke omgevingen die roestvast staal aantasten. De precisie van 1um verwijdert submicron siliciumhoudende deeltjes en metallische verontreinigingen zonder deeltjes af te stoten, waardoor de filtraatzuiverheid behouden blijft die vereist is voor wafelverwerking op nanometerschaal.

Bij toepassingen voor hoog-zuivere waterbehandelingscircuits wordt een poreus titaniumfilterpatroon van 1 µm ingezet voor natte verwerking van halfgeleiders als laatste veiligheidsfiltratie vóór ultrafiltratie- en EDI-systemen, waarbij het gesinterde titaniumpoederelement periodieke ozonsterilisatie en stoom-in- cycli tot 280 graden in natte omstandigheden weerstaat. In tegenstelling tot dieptefilters van polypropyleen of PTFE-membraanpatronen die zacht worden of delamineren onder thermische cycli, behoudt de vacuüm-gesinterde titaniummatrix de dimensionale integriteit over het pH-bereik van 1-14 en is hij bestand tegen drukverschillen tot 5,0 bar zonder dat de poriënstructuur instort. CMP-slurrypolijstlussen in geavanceerde fabrieken maken gebruik van titaniumfilterpatronen van 1 μm na -harsadsorptiefasen om geagglomereerde schurende overmaatse deeltjes op te vangen, terwijl de technische deeltjesgrootteverdeling van colloïdale silica- of ceriumoxide-slurries behouden blijft. De eigenschap dat er geen deeltjes vrijkomen en de online regenereerbaarheid via backflushing of ultrasone reiniging maken herhaaldelijk hergebruik mogelijk, waardoor de filtervervangingsfrequentie en de bedrijfskosten bij continue halfgeleider-natte bench-bewerkingen worden verlaagd.

Precisiefiltratieclassificatie – De poreuze titaniumfiltercartridge van 1 µm levert absolute- deeltjesretentie in natte verwerkingslijnen van halfgeleiders, waarbij submicron siliciumresiduen, metaalverontreinigingen en gel-achtige deeltjes uit agressieve chemicaliën, waaronder HF, HNO₃, SC-1 en SC-2, worden verwijderd zonder doorbraak in de media.

Corrosiebestendigheid in extreme pH-bereiken – Deze gesinterde titanium filterpatroon is vervaardigd uit meer dan of gelijk aan 99,4% hoog-zuiver titaniumpoeder via vacuümsinteren en is bestand tegen pH-omgevingen van 1–14 en is bestand tegen putcorrosie en chloride-aantasting die roestvrij staal of Hastelloy-filters in chemische distributiesystemen op natte tafels snel afbreekt.

Hoge thermische stabiliteit voor hete DIW- en SIP-cycli – Het gesinterde filter met titaniumpoeder is bestand tegen continu gebruik bij 280 graden onder natte omstandigheden en ondersteunt stoom-in--sterilisatie (SIP) en spoelingen met heet gedeïoniseerd water zonder de extraheerbare stoffen zacht te maken, te delamineren of uit te lekken, wat gebruikelijk is bij polypropyleen- of PTFE-membraanpatronen.

No particle shedding – Unlike depth filters or wound cartridges, the rigid sintered metal structure eliminates fiber release or media migration, maintaining ultrapure filtrate essential for nanometer-scale wafer fabrication where any foreign particle >0,5 μm veroorzaakt fatale apparaatdefecten.

Uitstekende regenereerbaarheid door terugspoelen – De poreuze titaniumfilterpatroon van 1 µm ondersteunt online terugspoelen, ultrasoon reinigen en zuurregeneratie, waarbij opgevangen vaste stoffen worden verwijderd en de initiële stroomsnelheid wordt hersteld gedurende tientallen hergebruikcycli, waardoor de vervangingsfrequentie van de cartridges en de bedrijfskosten bij fabrieken met grote- volumes aanzienlijk worden verlaagd.

Hoge differentiële druktolerantie – Vacuüm-gesinterde titaniummatrix handhaaft de integriteit van de poriënstructuur onder drukverschillen tot 5,0 bar, en presteert beter dan membraanfilters die bezwijken of scheuren tijdens piekstromingen of verstoppingen in natte halfgeleiderverwerkingsapparatuur.

Hoog-zuivere chemische distributielijnen in waferfabrieken – Geïnstalleerd in point{1}}of--filterbehuizingen voor 49% HF-, HNO₃-, NH₄OH-, H₂SO₄- en HCl-stromen, verwijdert de 1um gesinterde titanium filterpatroon submicron metaaldeeltjes en siliciumstof vóór natte banken en single- waferprocessors.

Recirculatielussen met geozoniseerd gedeïoniseerd water (DIO₃) – Toegepast als veiligheidsfiltratie in post--reinigings- en fotoresiststripgereedschappen. De poreuze titaniumcartridge van 1 µm is bestand tegen ozonconcentraties tot 20 ppm en continue UV-blootstelling, waarbij polypropyleenfilters bros worden en PTFE-membranen hun mechanische integriteit verliezen.

CMP slurry polishing loops – final polish and bulk removal – Positioned after slurry blending tanks and before dispense arms for colloidal silica, ceria, or alumina slurries. The sintered titanium filter traps over-sized agglomerates (>1um) met behoud van de oorspronkelijke deeltjesgrootteverdeling en het zeta-potentieel, met behoud van een consistente verwijderingssnelheid en binnen de -wafer non--uniformiteit (WIWNU).

Post-CMP-waterfiltratie met borstelbox-scrubber – Geïnstalleerd in gedeïoniseerde waterleidingen die PVA-borstels voeden om resterende schurende deeltjes en koperionen terug te vangen na het polijsten van de wafels. De absolute classificatie van 1um voorkomt microkrassen op koper en diëlektrische oppervlakken met een lage-k tijdens borstelcontact.

Ultrapuur water (UPW) polijstlus laatste veiligheidsfilter – Gepositioneerd vóór de point{0}}of--kleppen in natets- en spoelstations. De titaniumpoederfilterpatroon werkt in hete UPW (80 graden) en periodieke stoomsterilisatiecycli zonder deeltjes af te stoten, waardoor de bacteriële controle en het aantal deeltjes onder de klasse 1-vereisten blijven.

Stroomloze nikkel- en kobaltplateerbaden voor barrière-/zaadlagen – Geïntegreerd in zuiveringsskids voor galvaniseerbaden om deeltjesverontreiniging uit stabilisatoren en complexvormers te verwijderen. De corrosiebestendige titaniummatrix werkt bij verhoogde temperaturen (70-90 graden) en alkalische pH zonder waterstofverbrossing of badverontreiniging.

Tel: 0917-3873009

Telefoon: +86 18992731201

E-mail:zhangjixia@bjygti.com

Fax: 0917-3873009

Adres: Nee. 195, Gaoxin Avenue, High- Development Zone, Baoji City, Shaanxi, China

Whatsappen: +86 18992731201

Populaire tags: 1um poreuze titanium filterpatroon voor natte halfgeleiderverwerking, China, leveranciers, fabrikanten, aangepast, gebruik, prijslijst, te koop, op voorraad, gratis monster, poreus materiaal